超聲波清洗機(jī)QDR清潔工藝特點(diǎn)
發(fā)布日期：2022-08-12 00:00 來(lái)源：http://sdxnhbxg.cn 點(diǎn)擊：
超聲波清洗機(jī)QDR清潔工藝特點(diǎn)
一、噴淋清洗
上噴管有兩條路，產(chǎn)生交叉噴霧，但去離子水不應(yīng)直接噴水清洗晶圓表面，因?yàn)榫A在水侵蝕下直接噴水晶表面，容易產(chǎn)生顆粒淤泥，污染晶圓表面，因此，在去離子水噴水環(huán)節(jié)中，需要調(diào)整清洗壓力、水量、方向和視角，以達(dá)到較好的顆粒污染效果。良好的噴嘴噴涂類(lèi)別包括所有晶圓和片盒；不良的噴涂清洗形狀不覆蓋所有晶圓和片盒，盲區(qū)區(qū)域、顆粒、雜質(zhì)和化學(xué)物質(zhì)仍然很高，不能達(dá)到良好的清洗效果。
二、鼓包沖浪清洗
同時(shí)，下噴管道繼續(xù)從底部?jī)蓚?cè)進(jìn)水，然后從內(nèi)槽周?chē)绯?，使每個(gè)晶圓縫和邊緣的去離子水不斷升級(jí)。同時(shí)，純粹氣體（氮?dú)饣蚩諝鈮嚎s）自下噴淋管路進(jìn)到槽體。鼓包有以下幾個(gè)功效：
（1）增強(qiáng)了去離子水的沖刷力，對(duì)槽體自身有很好的自清洗功效；
(2)晶圓在流水中晃動(dòng)，氣泡不能附著在其上，提高了清洗效果；
（3）N去離子水中的氧含量降低，避免在晶圓表面產(chǎn)生氧化物。
三、超音波清洗
QDR增強(qiáng)了超音波作用選項(xiàng)，通過(guò)式噴淋清洗線(xiàn)與鼓包沖浪清洗更替功效，極大的提升了清洗效率，并有效降低DI水的使用量。典型的運(yùn)用方法是：上噴淋+排出→上噴淋+下進(jìn)水→超聲+上噴淋+溢流→鼓包+上噴淋+溢流→快排出
四、快沖快排
噴淋灌滿(mǎn)水時(shí)間和排水時(shí)間，對(duì)晶圓清洗品質(zhì)有很大影響。因?yàn)楸┞对诳諝庵械木A表面會(huì)接觸到空氣中的氧原子或水蒸氣，一層非常薄的氧化層(約0.5~1nm），這種天然氧化物的厚度與暴露在空氣中的時(shí)間有關(guān)。因此，霧化超聲波清洗線(xiàn)噴水時(shí)間越長(zhǎng)，晶圓暴露在空氣中的時(shí)間越長(zhǎng)，形成的氧化層越厚，對(duì)晶圓清洗非常不利。QDR排水的時(shí)間越少，排水流速就會(huì)越大，有益于去離子水帶去晶圓表面里的顆粒雜質(zhì)。因而，在QDR在設(shè)計(jì)中，要盡量減少?lài)姽鄷r(shí)間和排水時(shí)間，完成快沖快排，提高整體效率。超音波的QDR快排及注水時(shí)間指標(biāo)為：注入時(shí)間：≤120秒，排出時(shí)間：≤12秒。
一、噴淋清洗
上噴管有兩條路，產(chǎn)生交叉噴霧，但去離子水不應(yīng)直接噴水清洗晶圓表面，因?yàn)榫A在水侵蝕下直接噴水晶表面，容易產(chǎn)生顆粒淤泥，污染晶圓表面，因此，在去離子水噴水環(huán)節(jié)中，需要調(diào)整清洗壓力、水量、方向和視角，以達(dá)到較好的顆粒污染效果。良好的噴嘴噴涂類(lèi)別包括所有晶圓和片盒；不良的噴涂清洗形狀不覆蓋所有晶圓和片盒，盲區(qū)區(qū)域、顆粒、雜質(zhì)和化學(xué)物質(zhì)仍然很高，不能達(dá)到良好的清洗效果。
二、鼓包沖浪清洗
同時(shí)，下噴管道繼續(xù)從底部?jī)蓚?cè)進(jìn)水，然后從內(nèi)槽周?chē)绯?，使每個(gè)晶圓縫和邊緣的去離子水不斷升級(jí)。同時(shí)，純粹氣體（氮?dú)饣蚩諝鈮嚎s）自下噴淋管路進(jìn)到槽體。鼓包有以下幾個(gè)功效：
（1）增強(qiáng)了去離子水的沖刷力，對(duì)槽體自身有很好的自清洗功效；
(2)晶圓在流水中晃動(dòng)，氣泡不能附著在其上，提高了清洗效果；
（3）N去離子水中的氧含量降低，避免在晶圓表面產(chǎn)生氧化物。
三、超音波清洗
QDR增強(qiáng)了超音波作用選項(xiàng)，通過(guò)式噴淋清洗線(xiàn)與鼓包沖浪清洗更替功效，極大的提升了清洗效率，并有效降低DI水的使用量。典型的運(yùn)用方法是：上噴淋+排出→上噴淋+下進(jìn)水→超聲+上噴淋+溢流→鼓包+上噴淋+溢流→快排出
四、快沖快排
噴淋灌滿(mǎn)水時(shí)間和排水時(shí)間，對(duì)晶圓清洗品質(zhì)有很大影響。因?yàn)楸┞对诳諝庵械木A表面會(huì)接觸到空氣中的氧原子或水蒸氣，一層非常薄的氧化層(約0.5~1nm），這種天然氧化物的厚度與暴露在空氣中的時(shí)間有關(guān)。因此，霧化超聲波清洗線(xiàn)噴水時(shí)間越長(zhǎng)，晶圓暴露在空氣中的時(shí)間越長(zhǎng)，形成的氧化層越厚，對(duì)晶圓清洗非常不利。QDR排水的時(shí)間越少，排水流速就會(huì)越大，有益于去離子水帶去晶圓表面里的顆粒雜質(zhì)。因而，在QDR在設(shè)計(jì)中，要盡量減少?lài)姽鄷r(shí)間和排水時(shí)間，完成快沖快排，提高整體效率。超音波的QDR快排及注水時(shí)間指標(biāo)為：注入時(shí)間：≤120秒，排出時(shí)間：≤12秒。
